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臭氧水處理系統(tǒng)PAP-SC-200PAP-SC-200
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翁開(kāi)爾（北京）科技有限公司
IMEC和RCA清潔流程
UPW系統(tǒng)
高級(jí)氧化工藝AOP
三相系統(tǒng)
生物降解DOC
滅菌
消毒CIP
特別是在半導(dǎo)體加工中，需要完全清潔的臭氧系統(tǒng)。在處理過(guò)程中從臭氧系統(tǒng)發(fā)射到半導(dǎo)體表面的任何金屬和顆粒（Wafer/IMIC/RCA/SOM等）都會(huì)影響芯片的質(zhì)量。包括其組件——例如臭氧發(fā)生器COM-AD或臭氧監(jiān)測(cè)器WM——在內(nèi)，Anseros的PAP-SC系統(tǒng)完全不含與臭氧接觸的金屬。無(wú)論是否有酸，它們都可以進(jìn)行清潔的濕法和干法加工。為了確保安全，PAP-SC系統(tǒng)包括一個(gè)CAT-HO臭氧破壞器。
氣體流量：100 - 1000 Nl/h
O3：100 - 300 g O3/m3
與臭氧接觸的材料：PFA、石英
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